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蔗糖鐵溶液粒度和zeta電位的分析

更新時(shí)間:2022-04-17      瀏覽次數(shù):1592

       納米粒度和zeta電位的測(cè)試方法有很多種,粒度可以采用動(dòng)態(tài)光散射原理、超聲波衰減法、電鏡等來(lái)做測(cè)試,zeta電位測(cè)試方法主要有相位分析光散射(PALS)法、電聲法、流動(dòng)電位法、顯微電泳法等。每種方法都有其各自的優(yōu)劣勢(shì)。今天就動(dòng)態(tài)光散射測(cè)試納米粒度和相位分析光散射(PALS)法測(cè)試zeta電位做個(gè)介紹。

一、納米粒度及zeta電位分析儀的應(yīng)用領(lǐng)域:

隨著科技的發(fā)展納米粒度及zeta電位分析儀的應(yīng)用領(lǐng)域很廣泛,比如:醫(yī)藥、材料、鋰電、涂料、化妝品、航天、環(huán)保等。在制造過(guò)程中的質(zhì)量控制,可以采用在線(xiàn)納米粒度儀,藥物輸送系統(tǒng)優(yōu)化等;zeta電位的測(cè)試可以用來(lái)評(píng)價(jià)樣品狀態(tài)穩(wěn)定性,化妝品和工業(yè)乳液穩(wěn)定性研究;納米顆粒制備和合成工藝優(yōu)化,先進(jìn)的膠體穩(wěn)定性分析和優(yōu)化,聚合物的表征。

今天小編以蔗糖鐵溶液為案例,給大家簡(jiǎn)單介紹下動(dòng)態(tài)光散射測(cè)試納米粒度及相位分析光散射法測(cè)試zeta電位。


檢測(cè)前準(zhǔn)備

(1)樣品展示:

圖片2.png


蔗糖鐵溶液主要為呈現(xiàn)深褐色,顏色比較深,對(duì)于zeta電位的測(cè)試是很有挑戰(zhàn)的。粒度測(cè)試也有難度。這對(duì)于儀器的精度和技術(shù)有比較高的要求。


(2)分析儀器:動(dòng)態(tài)光散射DLS納米粒度及zeta電位分析儀 

型號(hào):ZS 920

ZS920 動(dòng)態(tài)光散射納米粒度.jpg


二、檢測(cè)步驟:

通過(guò)之前的文章我們知道有流動(dòng)電位法,流動(dòng)電流法,顯微電泳法,電泳光散射法等測(cè)量方法,其中流動(dòng)電位法,流動(dòng)電流法可以測(cè)量幾乎所有尺寸的宏觀固體表面上的zeta電位,特別適合于測(cè)量膜等大尺寸平面樣品的zeta電位;顯微電泳法,電泳光散射法適于測(cè)量膠體顆粒的zeta電位,我們的蔗糖鐵溶液就是通過(guò)電泳光散射法來(lái)測(cè)量的。下面就是具體的檢測(cè)步驟。

1)打開(kāi)儀器后面的開(kāi)關(guān)及電腦顯示器。

2)打開(kāi)操作軟件,選擇所要保存數(shù)據(jù)的文件夾

3)將待測(cè)溶液加入粒度樣品池比色皿(水相用塑料,有機(jī)相用玻璃)中,插入樣品槽,蓋上儀器外蓋。

4)設(shè)定測(cè)試參數(shù)

5)開(kāi)始測(cè)量

6)數(shù)據(jù)分析

三、測(cè)試數(shù)據(jù):

1)粒度測(cè)試結(jié)果展示

報(bào)告.png


2. zeta電位測(cè)試結(jié)果展示


四、我們的優(yōu)勢(shì):

梓夢(mèng)科技的納米粒度及zeta電位分析儀具有以下幾點(diǎn)優(yōu)勢(shì):

(1)高效的信噪比和抗干擾能力,它是利用光纖技術(shù)集成發(fā)射光路和接收光路,從而有效地提高了信噪比和抗干擾能力。

(2)先對(duì)散射光信號(hào)進(jìn)行頻譜預(yù)分析,獲取需要細(xì)化分析的頻譜范圍,然后在窄帶范圍內(nèi)進(jìn)行高分辨率的頻譜細(xì)化分析,從而獲得準(zhǔn)確的散射光頻移。

(3)基于雙電層理論模型,求解顆粒的雙電層厚度,獲得準(zhǔn)確的顆粒半徑與雙電層厚度的比值,再利用最小二乘擬合算法獲得精確的Henry函數(shù)表達(dá)式,進(jìn)而有效提高了納米粒度及zeta電位分析儀的測(cè)量精度。

(4)Henry函數(shù)的取值:使用最小二乘曲線(xiàn)擬合算法對(duì)Wiersema計(jì)算的精確Henry函數(shù)值進(jìn)行擬合, 得到優(yōu)化Henry函數(shù)表達(dá)式.

(5)強(qiáng)大易用的控制軟件;ZS-920系列納米粒度及zeta電位分析儀的控制軟件具有納米顆粒粒度和zeta電位測(cè)量功能,一鍵式測(cè)量,具有符合21CFR Part11要求的軟件,滿(mǎn)足制藥企業(yè)用戶(hù)對(duì)數(shù)據(jù)管理的要求。

   如對(duì)動(dòng)態(tài)光散射納米粒度和zeta電位分析儀有更多疑問(wèn)隨時(shí)歡迎


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